美國NANOVEA納米壓痕儀
簡介：美國NANOVEA公司是一家公認(rèn)的壓痕測試儀的領(lǐng)航者，生產(chǎn)的壓痕測試儀是目前國際上用在科學(xué)研究和工業(yè)領(lǐng)域先進(jìn)的設(shè)備。
主要應(yīng)用：
半導(dǎo)體技術(shù)(鈍化層、鍍金屬、Bond Pads)；存儲材料(磁盤的保護(hù)層、磁盤基底上的磁性涂層、CD的保護(hù)層)；光學(xué)組件(接觸鏡頭、光纖、光學(xué)刮擦保護(hù)層)；金屬蒸鍍層；防磨損涂層(TiN, TiC, DLC, 切割工具)；藥理學(xué)(藥片、植入材料、生物組織)；工程學(xué)(油漆涂料、橡膠、觸摸屏、MEMS)等行業(yè)；
技術(shù)特點(diǎn)：
主要用于微納米尺度薄膜材料的硬度與楊氏模量測試，測試結(jié)果通過力與壓入深度的曲線計(jì)算得出，無需通過顯微鏡觀察壓痕面積。
•完全符合ISO14577、ASTME2546
•光學(xué)顯微鏡自動(dòng)觀察
•獨(dú)特的熱漂移控制技術(shù)
•可硬度、剛度、彈性模量、斷裂剛度、失效點(diǎn)、應(yīng)力－應(yīng)變、蠕變性能等力學(xué)數(shù)據(jù)。
•適時(shí)測量載荷大小
•采用獨(dú)立的載荷加載系統(tǒng)與高分辨率的電容深度傳感器
•快速的壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)的載荷反饋系統(tǒng)
•雙標(biāo)準(zhǔn)校正：熔融石英與藍(lán)寶石
技術(shù)參數(shù)：
• 加載載荷：400mN
• 載荷分辨率：30nN
• 可實(shí)現(xiàn)的小載荷：1.5µN
• 位移分辨率：0.003nm
• 可實(shí)現(xiàn)的自小位移：0.04nm
• 可實(shí)現(xiàn)的位移：250µm
• 熱飄逸<0.05nm/s(室溫條件下)
• DMA模式：20HZ