- 產品品牌：
- 德國
- 產品型號：
- ZLM800
產品功能
ZLM800微位移測量激光干涉儀——雙頻激光干涉儀，主要用于各種平臺和部件的微位測量、各種擺鏡角度變化量的監測、運動平臺位移量和角度變化的檢測、光刻機幾何量的測量、數控機床幾何量的測量等，多可實現六軸聯動。也可通過位移+偏擺+俯仰的三角關系測量檢測物體的振動變化。
性能優勢
技術參數
型號：ZLM800
使用高性能PCI或單片機式數據處理器
He-Ne激光平均波長：
632.8 nm
激光穩頻：
一小時2x10-9（±0.002ppm）
壽命內2x10-8（±0.02ppm）
系統（0-40℃時）：
±0.4ppm
光束直徑：
6mm (可選3.2mm)
激光管突發輸出功率：
5mW (激光等級2)
每束光可測量的軸數：
多6個
線性測量距離：
2m
角度測量范圍：
± 3.5'
速度：
2m/s
加速：
無限制
采樣頻率：
內部1MHz，外部40MHz
預熱時間：
10分鐘
位移測量分辨率：
1.25nm
位移測量：
±0.4ppm (μ/m)
角度測量分辨率：
0.003μrad
角度測量：
±0.1ppm實測值
數據接口：
積分信號
32 Bit (實時時間)
Dt » 20 ns
數據分析標準：
ISO230/VDI3441/VDI2617/NMTBA
工作環境：
溫度：15°C-30°C
濕度：<90%無冷凝
儲存環境：
溫度：10°C-40°C
濕度：<95%無冷凝
應用
下述是為國內某研究所某項目設計的ZLM800測量系統。用戶預先把被測物體放置在密閉箱中，密閉箱留有觀察窗口。所需要測量的數據是被監視目標Ⅰ、被監視目標Ⅱ的X、Y向的角度變化量，以及這兩個目標在Z方向的相對變化量。
ZLM800部分光路圖示例
從X、Y和Z方向同時測量被測物體的位移，其中X和Y在一個水平層面上
在水平方向同時測量出被測物體的位移、偏擺和俯仰角度變化（上圖）
在垂直方向同時測量出被測物體的位移、偏擺和俯仰角度變化（上圖）
同時從X和Y方向測量被測物體的位移變化（上圖）
同時從X和Y方向測量運動平臺兩個層面的位移變化（上圖）
同時從X和Y方向測量位移、偏擺和俯仰的角度的變化（1）
同時從X和Y方向測量位移、偏擺和俯仰的變化（2）
同時從X和Y方向測量位移、偏擺和俯仰的變化（3）
資料
復雜光路測量的應用.pdf
系統應用簡介.pdf
