一、真空箱式爐應用領域
該真空箱式爐以電阻絲為加熱元件，采用雙層殼體結構和40段程序控溫系統，移相觸發、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，真空箱式爐廣泛應用于金屬材料在低真空、還原性、保護性氣氛下的熱處理；也可以用于材料的熱處理。
二、真空箱式爐主要特點
爐門口安裝有水冷系統，氣體經過流量計后由后膛進入，并有多處洗爐膛進氣口，出氣口處有燃燒嘴，可以通氫氣、氬氣、氮氣、氧氣、一氧化碳等氣體，能抽真空，真空度可達15pa，該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、等優點，是高校、科研院所、工礦企業做氣氛保護燒結、氣氛還原用的理想產品。
該真空箱式爐以電阻絲為加熱元件，采用雙層殼體結構和40段程序控溫系統，移相觸發、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，真空箱式爐廣泛應用于金屬材料在低真空、還原性、保護性氣氛下的熱處理；也可以用于材料的熱處理。
二、真空箱式爐主要特點
爐門口安裝有水冷系統，氣體經過流量計后由后膛進入，并有多處洗爐膛進氣口，出氣口處有燃燒嘴，可以通氫氣、氬氣、氮氣、氧氣、一氧化碳等氣體，能抽真空，真空度可達15pa，該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、等優點，是高校、科研院所、工礦企業做氣氛保護燒結、氣氛還原用的理想產品。
其他說明
| 設備型號 | ZWF1100 -I | ZWF1100 -II | ZWF1100 -III | ZWF1100 -IV | ZWF1100 -V |
| 溫度 | 1100℃ | 1100℃ | 1100℃ | 1100℃ | 1100℃ |
| 控制 | &plun;1℃ | &plun;1℃ | &plun;1℃ | &plun;1℃ | &plun;1℃ |
| 爐膛尺寸 (mm) | 150*150*200 (H*W*D) | 200*200*300(H*W*D) | 250*250*300(H*W*D) | 300*300*400(H*W*D) | 400*400*500(H*W*D) |
| 發熱元件 | 電阻絲 | 電阻絲 | 電阻絲 | 電阻絲 | 電阻絲 |
| 真空度 | 66.6pa | 66.6pa | 66.6pa | 66.6pa | 66.6pa |
| 冷態壓升率 | ≦10~20pa/h | ≦10~20pa/h | ≦10~20pa/h | ≦10~20pa/h | ≦10~20pa/h |
| 溫控方式 | 可控硅模塊自控 | ||||
