上海續波光電技術有限公司
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圓柱形主腔體：電拋光不銹鋼
低溫泵+干泵，真空度< 4×10 -8 Torr。
三個6’’ DC磁控靶源，可達8英寸；
分別配備擋板，無交叉污染。
RF加載到DC靶源可選，可用DC/RF。
氬氣和氮氣氣路可用
4’’襯底加熱：750℃, 均勻性5℃內；單色光學高溫計
樣品臺冷卻：水冷
石英晶振監測（DC/RF模式下均可）
襯底RF刻蝕及偏壓（13.56MHz，氣冷）
LOAD LOCK （帶自動傳動手臂）
分子泵+干泵，真空度< 2×10-7 Torr
全自動傳動襯底
控制單元：全自動電腦控制，半自動和手動模式可選；遠程維護可用。
