可以用于沉積幾乎任何金屬及氧化物薄膜，目前主要導量子實驗室均使用該設備制備導結（量子比特和約瑟夫森結）和量子器件，可以制備大面積、高度穩定性和可重復性導結。更詳細信息或資料，請咨詢我們！
推薦配置
蒸發腔體：
泵裝置：低溫泵/TMP＋葉片泵/干泵；
真空度通常10-8Torr
電子束蒸發源：6-15KW
Load lock預真空進樣室：
泵裝置：TMP＋葉片泵/干泵，
真空度<10-7 Torr
襯底支架：可加載4英寸襯底
襯底3D轉動
襯底傾斜：角度范圍請咨詢，和重復性0.1°（可升級）；
襯底旋轉：20rpm.
氧化硬件：靜態氧化
氣體接口：氧氣及其他氣體來實現清潔和氧化過程
襯底清洗：配備離子
石英晶振膜厚控制儀；
頻率分辨率：10-4Hz或更優
速率控制分辨率：0.01Å/s；
厚度分辨率：0.01Å
全自動軟件包，支持半自動和手動模式，支持遠程網絡操作和維護。
典型用戶：耶魯大學、UC、普林斯頓大學、滑鐵盧大學、法國科學研究中心、格拉斯哥大學、日本NTT、清華大學等
歡迎咨詢！
推薦配置
蒸發腔體：
泵裝置：低溫泵/TMP＋葉片泵/干泵；
真空度通常10-8Torr
電子束蒸發源：6-15KW
Load lock預真空進樣室：
泵裝置：TMP＋葉片泵/干泵，
真空度<10-7 Torr
襯底支架：可加載4英寸襯底
襯底3D轉動
襯底傾斜：角度范圍請咨詢，和重復性0.1°（可升級）；
襯底旋轉：20rpm.
氧化硬件：靜態氧化
氣體接口：氧氣及其他氣體來實現清潔和氧化過程
襯底清洗：配備離子
石英晶振膜厚控制儀；
頻率分辨率：10-4Hz或更優
速率控制分辨率：0.01Å/s；
厚度分辨率：0.01Å
全自動軟件包，支持半自動和手動模式，支持遠程網絡操作和維護。
典型用戶：耶魯大學、UC、普林斯頓大學、滑鐵盧大學、法國科學研究中心、格拉斯哥大學、日本NTT、清華大學等
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